ECR microgolf plasmabronnen

Hoofdprincipe

Gewoonlijk worden uniforme plasma's over grote afmetingen verwerkt, waarbij meestal sterke ionische assistentie nodig is. Zij zijn essentieel voor oppervlaktebehandelingen op industriële schaal die steeds hogere ets- of afzettingssnelheden vereisen, zoals plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of diep etsen.

Deze eisen hebben de ontwikkeling gestimuleerd van uniforme plasmabronnen, met een hoge dichtheid, die bovendien in staat zijn hoge concentraties van reactieve species af te geven.

Miniaturisatie dankzij solid-state technologie

De standaardtechnologie maakt gebruik van een stroomverdelingssysteem (magnetron, golfgeleiders, tuner, kortsluiting) om alle bronnen van microgolfvermogen te voorzien vanuit één enkele microgolfgenerator. Het microgolfvermogen moet echter gelijkelijk worden verdeeld tussen de bronnen en het gebruik van een bijpassende impedantie-inrichting is verplicht.

Om dit probleem op te lossen, hebben wij een nieuwe ECR coaxiale microgolf plasmabron ontwikkeld, de Aura-Wave. Het innovatieve ontwerp van de bron voorkomt vermogensverlies in de bron en maakt het mogelijk dat de bron zichzelf aanpast over een breed toepassingsgebied zonder dat een impedantieaanpassingssysteem nodig is.

Aura-Wave ECR plasmabron

Aura-Wave is een elektronische cyclotronresonantie (ECR) coaxiale microgolfplasmabron die stabiele plasma's kan onderhouden van 10 ^-4 tot 10 ^-2 mbar (0,1 Pa tot 10 Pa). Permanente cilindrische magneten zijn ingekapseld en tegengesteld gemonteerd binnen de coaxiale structuur, waardoor een magnetisch veld in de richting van de plasmakamer kan worden opgewekt om verliezen naar de wanden te beperken.

De bron maakt het mogelijk om voor de meeste gassen plasmadichtheden van 10 ¹¹ cm ^-3 te bereiken in een configuratie met meerdere bronnen met een werkafstand van 10 cm.

Bekijk ons laatste onderzoek op onze Aura-Wave ECR microgolf plasmabronnen hier !