Fontes de plasma de microondas de colisão

Processos uniformes de plasma sobre grandes dimensões, e na maioria das vezes exigindo uma forte assistência iónica, são essenciais para o tratamento de grandes superfícies.

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PauloBODART

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Princípioprincipal

Normalmente, os plasmas uniformes são processados sobre grandes dimensões, e na maioria das vezes requerem uma forte assistência iónica. São essenciais para tratamentos de superfície à escala industrial que requerem taxas de gravura ou deposição cada vez mais elevadas, tais como a deposição de vapor químico reforçado com plasma (PECVD) ou gravura profunda.

 

Estes requisitos estimularam o desenvolvimento de fontes de plasma uniformes, de alta densidade, que, além disso, são capazes de fornecer concentrações elevadas de espécies reactivas.

Porquê usar as nossas fontes de plasma?

Além disso, para criar um grande volume de plasma, superando a densidade crítica que limita a propagação das ondas, é necessário distribuir sabiamente as fontes de plasma. Isto acrescenta uma forte restrição ao controle da potência transmitida a cada fonte.

 

Para ultrapassar estas limitações, desenvolvemos duas fontes de plasma inovadoras de autocomparação trabalhando com geradores de estado sólido de 2,45 GHz o Hi-Wave. A concepção inovadora da nossa fonte, associada aos nossos geradores de estado sólido (algoritmo patenteado de auto-ajuste) evita a perda de energia dentro da fonte e permite ser bastante auto-ajustável em condições de funcionamento amplas sem necessidade de qualquer sistema de correspondência de impedância.

Hi-Wave fonte de plasma colisional

Hi-Wave é uma fonte de plasma de microondas do tipo colisão e pode funcionar de 10 -2 a 1 mbar (1 Pa a 100 Pa). Por conseguinte, destina-se a funcionar sem ímanes no regime de colisão.

 

Densidades de plasma superiores a 10 12 cm -3 podem ser alcançadas em configuração de múltiplas fontes com uma distância de trabalho de 10 cm, para a maioria dos gases.

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