ECR fontes de plasma por microondas

Princípioprincipal

Normalmente, o plasma uniforme é processado sobre grandes dimensões, e na maioria das vezes requer uma forte assistência iónica. São essenciais para tratamentos de superfície à escala industrial que requerem taxas de gravura ou deposição cada vez mais elevadas, tais como a deposição de vapor químico reforçado com plasma (PECVD) ou gravura profunda.

Estes requisitos estimularam o desenvolvimento de fontes de plasma uniformes, de alta densidade, que, além disso, são capazes de fornecer concentrações elevadas de espécies reactivas.

Miniaturização graças à tecnologia de estado sólido

A tecnologia padrão utiliza um sistema de distribuição de energia (magnetrão, guias de ondas, sintonizador, curto-circuito) para fornecer energia de microondas a todas as fontes a partir de um único gerador de microondas. Contudo, a potência de microondas tem de ser distribuída igualmente entre as fontes e a utilização de um dispositivo de impedância correspondente é obrigatória.

Para ultrapassar este problema, desenvolvemos uma nova fonte de plasma coaxial de microondas ECR, a Aura-Wave. A concepção inovadora da fonte evita a perda de energia dentro da fonte e permite ser bastante auto-ajustada em condições de funcionamento amplas sem necessidade de qualquer sistema de correspondência de impedância.

Aura-Wave fonte de plasma ECR

Aura-Wave é uma fonte de plasma coaxial de microondas de ressonância ciclotrónica (ECR) que pode sustentar plasmas estáveis de 10 ^-4 a 10 ^-2 mbar (0,1 Pa a 10 Pa). Ímanes cilíndricos permanentes são encapsulados e montados em oposição no interior da estrutura coaxial, permitindo a geração de um campo magnético em direcção à câmara de plasma a fim de limitar as perdas para as paredes.

A fonte permite atingir densidades de plasma de 10 ¹¹ cm ^-3 em configuração multi-fonte com uma distância de trabalho de 10 cm, para a maioria dos gases.

Encontre o nosso mais recente tranquilizador no nosso Aura-Wave ECR fontes de plasma de microondas aqui !