Источники микроволновой плазмыECR

Главный принцип

Обычно однородная плазма обрабатывает большие размеры и чаще всего требует сильной ионной поддержки. Они необходимы для обработки поверхности в промышленных масштабах, требующих все более высоких скоростей травления или осаждения, таких как химическое осаждение из паровой фазы с усилением плазмы (PECVD) или глубокое травление.

Эти требования стимулировали разработку однородных источников плазмы высокой плотности, которые, кроме того, способны обеспечивать высокие концентрации реактивных видов.

Миниатюризация благодаря полупроводниковой технологии

Стандартная технология использует систему распределения мощности (магнетрон, волноводы, тюнер, короткозамыкатель) для подачи СВЧ мощности ко всем источникам от одного СВЧ генератора. Однако СВЧ мощность должна быть равномерно распределена между источниками, поэтому использование устройства согласования импеданса является обязательным.

Для преодоления этой проблемы мы разработали новый коаксиальный источник микроволновой плазмы ECR - Aura-Wave. Инновационная конструкция источника предотвращает потери мощности внутри источника и позволяет ему быть вполне самосогласованным в широких рабочих условиях без необходимости использования какой-либо системы согласования импеданса.

Aura-Wave источник электрокардиографической плазмы

Aura-Wave - это коаксиальный микроволновый источник плазмы с электронным циклотронным резонансом (ЭЦР), который может поддерживать стабильную плазму от 10 ^-4 до 10 ^-2 мбар (0,1 Па до 10 Па). Постоянные цилиндрические магниты инкапсулированы и установлены оппозитно внутри коаксиальной структуры, что позволяет генерировать магнитное поле в направлении плазменной камеры для ограничения потерь на стенки.

Источник позволяет достичь плотности плазмы 10 ¹¹ см ^-3 в многоисточниковой конфигурации с рабочим расстоянием 10 см для большинства газов.

Ознакомьтесь с нашими последними исследованиями о наших источниках микроволновой плазмы Aura-Wave ECR здесь !