ECR微波等离子体源

大尺寸的均匀等离子体过程，通常需要强大的离子辅助，对于大面积的表面处理是至关重要的。

保罗BODART

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主要原则

通常情况下，均匀的等离子体在大尺寸上进行处理，并且最常需要强大的离子辅助。它们对于需要越来越高的蚀刻或沉积速率的工业规模的表面处理是必不可少的，如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）或 深度蚀刻.

这些要求刺激了高密度的均匀等离子体源的发展，此外，它还能够提供高浓度的活性物质。

标准技术使用一个功率分配系统（磁控管、波导、调谐器、短路），从一个微波发生器向所有来源提供微波功率。然而，微波功率必须在各源之间平均分配，并且必须使用匹配阻抗装置。

为了克服这个问题，我们开发了一种新的ECR同轴微波等离子体源，Aura-Wave 。该源的创新设计防止了源内的功率损失，并允许在广泛的工作条件下进行自我匹配，不需要任何阻抗匹配系统。

Aura-Wave 是一个电子回旋共振（ECR）微波同轴等离子体源，可以维持10^-4至10^-2mbar（0.1Pa至10Pa）的稳定等离子体。永久的圆柱形磁铁被封装起来，并在同轴结构内对立安装，允许产生一个朝向等离子体室的磁场，以限制对墙壁的损失。

该源使大多数气体在多源配置下有可能达到10¹¹厘米^-3的等离子体密度，工作距离为10厘米。

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