Sorgenti di plasma a microondeECR

Principioprincipale

Di solito, i plasma uniformi sono lavorati su grandi dimensioni, e il più delle volte richiedono una forte assistenza ionica. Sono essenziali per i trattamenti superficiali su scala industriale che richiedono tassi di incisione o deposizione sempre più elevati, come la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD) o incisione profonda.

Queste esigenze hanno stimolato lo sviluppo di fonti di plasma uniformi, ad alta densità, che, inoltre, sono in grado di fornire alte concentrazioni di specie reattive.

Miniaturizzazione grazie alla tecnologia a stato solido

La tecnologia standard utilizza un sistema di distribuzione della potenza (magnetron, guide d'onda, tuner, cortocircuito) per fornire potenza a microonde a tutte le sorgenti da un unico generatore di microonde. Tuttavia, la potenza a microonde deve essere equamente distribuita tra le sorgenti e l'uso di un dispositivo di adattamento dell'impedenza è obbligatorio.

Per superare questo problema, abbiamo sviluppato una nuova sorgente di plasma a microonde coassiale ECR, la Aura-Wave. Il design innovativo della sorgente impedisce la perdita di potenza all'interno della sorgente e permette di essere abbastanza auto-equipaggiata su ampie condizioni operative senza bisogno di alcun sistema di adattamento di impedenza.

Aura-Wave Sorgente di plasma ECR

Aura-Wave è una sorgente di plasma coassiale a microonde a risonanza ciclotronica elettronica (ECR) che può sostenere plasmi stabili da 10 ^-4 a 10 ^-2 mbar (da 0,1 Pa a 10 Pa). I magneti permanenti cilindrici sono incapsulati e montati in opposizione all'interno della struttura coassiale, permettendo la generazione di un campo magnetico verso la camera di plasma per limitare le perdite alle pareti.

La sorgente permette di raggiungere densità di plasma di 10 ¹¹ cm ^-3 in configurazione multi-sorgente con una distanza di lavoro di 10 cm, per la maggior parte dei gas.

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