ECR-Mikrowellen-Plasmaquellen

Hauptprinzip

In der Regel werden gleichmäßige Plasmen in großen Dimensionen verarbeitet und erfordern meist eine starke ionische Unterstützung. Sie sind unverzichtbar für Oberflächenbehandlungen im industriellen Maßstab, die immer höhere Ätz- oder Abscheidungsraten erfordern, wie die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) oder Tiefes Ätzen.

Diese Anforderungen haben die Entwicklung einheitlicher Plasmaquellen mit hoher Dichte gefördert, die zudem in der Lage sind, hohe Konzentrationen reaktiver Spezies zu liefern.

Miniaturisierung dank Solid-State-Technologie

Die Standardtechnologie verwendet ein Leistungsverteilungssystem (Magnetron, Wellenleiter, Tuner, Kurzschluss), um alle Quellen von einem einzigen Mikrowellengenerator aus mit Mikrowellenleistung zu versorgen. Die Mikrowellenleistung muss jedoch gleichmäßig zwischen den Quellen verteilt werden, und die Verwendung einer Impedanzanpassungsvorrichtung ist zwingend erforderlich.

Um dieses Problem zu überwinden, haben wir eine neue ECR-Koaxial-Mikrowellen-Plasmaquelle entwickelt, die Aura-Wave. Das innovative Design der Quelle verhindert Leistungsverluste innerhalb der Quelle und ermöglicht eine vollständige Selbstanpassung über einen weiten Betriebsbereich , ohne dass ein Impedanzanpassungssystem erforderlich ist.

Aura-Wave ECR-Plasmaquelle

Aura-Wave ist eine koaxiale Mikrowellenplasmaquelle mit elektronischer Zyklotronresonanz (ECR), die stabile Plasmen von 10 ^-4 bis 10 ^-2 mbar (0,1 Pa bis 10 Pa) erzeugen kann. Zylindrische Dauermagnete sind eingekapselt und in der koaxialen Struktur gegenüberliegend montiert, was die Erzeugung eines Magnetfeldes in Richtung der Plasmakammer ermöglicht, um Verluste an den Wänden zu begrenzen.

Die Quelle ermöglicht es, für die meisten Gase Plasmadichten von 10 ¹¹ cm ^-3 in Multi-Source-Konfiguration mit einem Arbeitsabstand von 10 cm zu erreichen.

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