Plasma a microonde per la deposizione di film sottili

Principioprincipale

Di solito, i plasmi uniformi sono trattati su grandi dimensioni, e il più delle volte richiedono una forte assistenza ionica. Sono essenziali per i trattamenti superficiali su scala industriale che richiedono tassi di incisione o deposizione sempre più elevati, come la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD) o incisione profonda. Questi requisiti hanno stimolato lo sviluppo di sorgenti di plasma uniformi, ad alta densità, che, inoltre, sono in grado di fornire alte concentrazioni di specie reattive.

Le fonti di plasma a microonde sono ben note per le loro prestazioni in termini di creazione di alte densità di specie reattive. Ma sono state spesso considerate seconde per la difficoltà di implementarle in un processo industriale, poiché la maggior parte di esse richiede un sistema di adattamento dell'impedenza difficile da automatizzare.

Perché usare le nostre fonti di plasma?

Inoltre, per creare un grande volume di plasma superando la densità critica che limita la propagazione delle onde, è necessario distribuire saggiamente le fonti di plasma.

Per superare questi vincoli, abbiamo sviluppato due innovative sorgenti di plasma self-matching che lavorano con generatori a stato solido a 2,45 GHz: Aura-Wave e Hi-Wave. Il piccolo ingombro della nostra soluzione permette di creare un array di sorgenti di plasma, senza limiti di scala.

Sulle fonti di plasma tradizionali RF o MW, c'è una mancanza di uniformità soprattutto sui bordi. Controllando la potenza di ogni sorgente in modo indipendente, la nostra tecnologia dei generatori a stato solido elimina tutte queste limitazioni, per qualsiasi dimensione di substrato.

Superficie di plasmaillimitata

Con Aura-wave e Hi-wave sorgenti di plasma in configurazione a matrice, è possibile impostare infinite possibilità di combinazione:

• Disposizione in linea
• Disposizione circolare
• Disposizione a matrice
• Disposizione 3D

Questo permette di sviluppare processi con un'alta densità di plasma e un'eccellente uniformità su larga scala.

Aura-Wave Sorgente di plasma ECR

Aura-Wave è una sorgente di plasma coassiale a risonanza di ciclotroni elettronici. È stata progettata per essere autoadattata una volta che il plasma viene acceso. Un campo magnetico combinato con l'onda elettromagnetica permette la creazione di plasma a bassa pressione grazie alla risonanza di ciclotroni elettronici. La sorgente Aura-Wave è stata progettata per sostenere il plasma a microonde su diverse decadi di pressione e a partire da pochi watt, qualunque sia il gas.

La sorgente permette di raggiungere densità di plasma di 10 ¹¹ cm ^-3 in configurazione multisorgente a 10 cm dal piano della sorgente con la maggior parte dei gas.

Trovate le nostre ultime ricerche sulle nostre fonti di plasma a microonde Aura-Wave ECR qui !

Hi-Wave sorgente di plasma collisionale

La sorgente di plasma coassiale collisionale Hi-Wave è stata progettata per evitare perdite di potenza interne e ha dimostrato di essere abbinata, cioè nessuna potenza riflessa, senza alcun sistema aggiuntivo di adattamento di impedenza oltre 1 decade di pressione, a seconda del gas plasma.

Hi-Wave è una sorgente di plasma a microonde di tipo collisionale è quindi destinato a funzionare senza magneti in regime collisionale.

Densità di plasma maggiori di 10 ¹² cm ^-3 possono essere raggiunte in configurazione multi-sorgente a 10 cm dal piano della sorgente con la maggior parte dei gas.

Pronto per essere integrato

Compatte, affidabili e dal design industriale, le nostre soluzioni OEM al plasma a microonde sono facilmente integrabili nelle vostre attrezzature. I nostri esperti vi assisteranno in ogni fase del processo, effettuando ampie simulazioni, per ottimizzare il vostro processo.

Abbiamo anni di esperienza nello sviluppo di sistemi a microonde e plasma. Scegliendo SAIREM, vi affidate a un partner con una forte R&S, una cultura di supporto e un'elevata flessibilità, fin dalle sue origini.