Plasma a microonde per l' incisione a secco

Rimuovere materiale e resina dalle superfici con il nostro processo di incisione a secco al plasma a microonde.

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Principioprincipale

Oggi, processi di plasma uniformi su grandi dimensioni, e che spesso richiedono una forte assistenza ionica, sono essenziali per i processi di etching come il RIE (Reactive Ion Etching), l'incisione profonda o la rimozione di resist. Questi requisiti hanno stimolato lo sviluppo di sorgenti di plasma uniformi, ad alta densità di plasma, e capaci inoltre di fornire alte concentrazioni di specie reattive.

 

Le sorgenti di plasma a microonde sono ben note per le loro prestazioni in termini di creazione di alte densità di specie reattive, ma sono state spesso considerate di seconda scelta data la difficoltà di implementarle in un processo industriale. Tali fonti richiedono spesso un sistema di adattamento dell'impedenza che è difficile da automatizzare.

Le nostre esclusive fonti di plasma

Inoltre, per creare un grande volume di plasma superando la densità critica che limita la propagazione delle onde, è necessario distribuire saggiamente le sorgenti di plasma. Questo aggiunge un forte vincolo al controllo della potenza trasmessa a ciascuna sorgente.

 

Per superare questi vincoli, abbiamo sviluppato due innovative sorgenti di plasma self-matching che lavorano con generatori a stato solido a 2,45 GHz: Aura-Wave e Hi-Wave.

Aura-Wave Sorgente di plasma ECR

Aura-Wave è una sorgente di plasma coassiale a risonanza di ciclotroni elettronici. È stata progettata per essere auto-adattata una volta che il plasma viene acceso. Un campo magnetico combinato con l'onda elettromagnetica permette la creazione di plasma a bassa pressione grazie alla risonanza di ciclotroni elettronici. La sorgente Aura-Wave è stata progettata per sostenere il plasma a microonde su diverse decadi di pressione e a partire da pochi watt, qualunque sia il gas.

 

Allo stesso modo, la sorgente di plasma coassiale è stata progettata per evitare le perdite di potenza interne e ha dimostrato di essere abbinata, cioè nessuna potenza riflessa senza un sistema aggiuntivo di adattamento di impedenza su 2 o 3 decenni di pressione, a seconda del gas plasma.

 

La sorgente permette di raggiungere densità di plasma di alcuni1011 cm-3 in configurazione multisorgente a 10 cm dalle sorgenti. Trova le nostre ultime ricerche sulle nostre sorgenti di plasma a microonde Aura-Wave ECR qui !

Maggiori informazioni sulle fonti di plasma ECR

Hi-Wave sorgente di plasma collisionale

La sorgente di plasma coassiale collisionale Hi-Wave è stata progettata per evitare perdite di potenza interne e ha dimostrato di essere abbinata, cioè nessuna potenza riflessa, senza alcun sistema aggiuntivo di adattamento di impedenza oltre 1 decade di pressione, a seconda del gas plasma. Densità di plasma superiori a1012 cm-3 possono essere raggiunte in configurazione multi-sorgente a 10 cm dal piano della sorgente.

 

In combinazione con i nostri generatori di microonde a stato solido, è possibile controllare la potenza trasmessa al plasma Watt per Watt. Controllando la potenza di ogni sorgente in modo indipendente, la nostra tecnologia elimina tutte le limitazioni. Il basso mismatching che può apparire nelle condizioni operative può essere bilanciato grazie alla frequenza variabile del generatore a stato solido e quindi estendere la gamma di condizioni operative del Hi-Wave. È progettato per essere utilizzato ugualmente in sistemi industriali per una gamma molto ampia di applicazioni.

Maggiori informazioni sulle sorgenti di plasma collisionale

Pronto per essere integrato

Compatte, affidabili e dal design industriale, le nostre soluzioni OEM al plasma a microonde sono facilmente integrabili nelle vostre attrezzature. I nostri esperti vi assisteranno in ogni fase del processo, effettuando ampie simulazioni, per ottimizzare il vostro processo.

 

Abbiamo anni di esperienza nello sviluppo di sistemi a microonde e plasma. Scegliendo SAIREM, vi affidate a un partner con una forte cultura di R&S, alta flessibilità e supporto, fin dalle sue origini.

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