Al realizar procesos PEALD, PECVD o PVD, los procesos de plasma uniformes en grandes dimensiones son esenciales para los tratamientos superficiales a escala industrial.
Por lo general, los plasmas uniformes se procesan en grandes dimensiones, y la mayoría de las veces requieren una fuerte asistencia iónica. Son esenciales para tratamientos superficiales a escala industrial que requieren tasas de grabado o deposición cada vez más altas, como la deposición de vapor químico mejorado por plasma (PECVD) o el grabado profundo. Estos requisitos han estimulado el desarrollo de fuentes plasmáticas uniformes, de alta densidad, que, además, son capaces de ofrecer altas concentraciones de especies reactivas.
Las fuentes plasmáticas de microondas son bien conocidas por su rendimiento en términos de crear altas densidades de especies reactivas. Pero a menudo se les ha considerado los segundos mejores dada la dificultad de implementarlos en un proceso industrial, ya que la mayoría de ellos requieren un sistema de adaptación de impedancia que es difícil de automatizar.
Además, para crear un gran volumen de plasma superando la densidad crítica que limita la propagación de las ondas, es necesario distribuir sabiamente las fuentes de plasma.
Para superar estas limitaciones, hemos desarrollado dos innovadoras fuentes de plasma autoajustadas que funcionan con generadores de estado sólido de 2,45 GHz: Aura-Wave y Hi-Wave. La pequeña huella de nuestra solución permite crear una matriz de fuentes de plasma, sin limitación de escala.
En las fuentes tradicionales de plasma RF o MW, hay una falta de uniformidad, especialmente en los bordes. Al controlar la potencia de cada fuente de forma independiente, nuestra tecnología de generadores de estado sólido elimina todas estas limitaciones, para cualquier tamaño de sustrato.
Con Aura-wave y Hi-wave fuentes de plasma en configuración de matriz, puede configurar la posibilidad de combinación infinita:
Esto permite desarrollar procesos con alta densidad de plasma y excelente uniformidad a gran escala.
Aura-Wave es una fuente de plasma coaxial de resonancia de ciclotrón electrónico. Ha sido diseñado para ser autoadaptado una vez que el plasma se enciende. Un campo magnético combinado con la onda electromagnética permite la creación de plasma a baja presión debido a la resonancia del ciclotrón electrónico. El Aura-Wave La fuente ha sido diseñada para mantener el plasma de microondas durante varias décadas de presión y a partir de unos pocos vatios, sea cual sea el gas.
La fuente permite alcanzar densidades plasmáticas de 10 11 cm -3 en configuración multiproceso a 10 cm del plano de origen con la mayoría de los gases.
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Más información sobre Aura-Wave
El Hi-Wave La fuente de plasma coaxial de colisión fue diseñada para evitar pérdidas de potencia internas y ha demostrado ser igualada, es decir, sin potencia reflejada, sin sistema de coincidencia de impedancia adicional durante 1 década de presión, dependiendo del gas de plasma.
Hi-Wave es una fuente de plasma de microondas de tipo colisión, por lo tanto, está destinada a funcionar sin imanes en el régimen de colisión.
Las densidades de plasma superiores a 10 12 cm -3 se pueden lograr en configuración de múltiples fuentes a 10 cm del plano de fuente con la mayoría de los gases.
Más información sobre Hi-Wave
Compactas, confiables y de diseño industrial, nuestras soluciones de plasma de microondas OEM son fácilmente integrables en sus propios equipos. Nuestros expertos le apoyarán en cada fase del proceso, realizando extensas simulaciones, para optimizar su proceso.
Tenemos años de experiencia en el desarrollo de sistemas de microondas y plasma. Al elegir SAIREM, confía en un socio con una fuerte I + D, cultura de apoyo y alta flexibilidad, desde sus orígenes.
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