Sources de plasma micro-ondesECR

Principe de base

Habituellement, les plasmas uniformes sont traités sur de grandes dimensions, et nécessitent le plus souvent une forte assistance ionique. Ils sont essentiels pour les traitements de surface à l'échelle industrielle qui nécessitent des taux de gravure ou de dépôt de plus en plus élevés, comme le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) ou le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (DCAV). gravure profonde.

Ces exigences ont stimulé le développement de sources de plasma uniformes, de haute densité, qui, en outre, sont capables de délivrer de fortes concentrations d'espèces réactives.

Miniaturisation grâce à la technologie des semi-conducteurs

La technologie standard utilise un système de distribution de puissance (magnétron, guides d'ondes, tuner, court-circuit) pour fournir une puissance micro-ondes à toutes les sources à partir d'un seul générateur de micro-ondes. Cependant, la puissance micro-ondes doit être répartie de manière égale entre les sources et l'utilisation d'un dispositif d'adaptation d'impédance est obligatoire.

Pour surmonter ce problème, nous avons développé une nouvelle source de plasma micro-ondes coaxiale ECR, le Aura-Wave. La conception innovante de la source empêche la perte de puissance à l'intérieur de la source et permet une auto-adaptation sur de larges conditions de fonctionnement sans avoir besoin d'un système d'adaptation d'impédance.

Aura-Wave Source de plasma ECR

Aura-Wave est une source de plasma coaxiale micro-ondes à résonance cyclotronique électronique (ECR) qui peut maintenir des plasmas stables de 10 ^-4 à 10 ^-2 mbar (0,1 Pa à 10 Pa). Des aimants cylindriques permanents sont encapsulés et montés en opposition à l'intérieur de la structure coaxiale, permettant la génération d'un champ magnétique vers la chambre à plasma afin de limiter les pertes aux parois.

La source permet d'atteindre des densités de plasma de 10 ¹¹ cm ^-3 en configuration multi-sources avec une distance de travail de 10 cm, pour la plupart des gaz.

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