PlasmaThin 2450 MHz – Source plasma micro-ondes
Source plasma haute précision pour le traitement de surface, le dépôt (ALD) et les applications plasma avancées
La source plasma micro-ondes PlasmaThin, développée par Sairem, est conçue pour générer des colonnes de plasma stables et reproductibles pour les procédés industriels et scientifiques.
Basée sur la propagation d’ondes de surface le long d’une interface diélectrique, PlasmaThin permet de générer efficacement un plasma depuis les basses pressions (10⁻² mbar) jusqu’à la pression atmosphérique, offrant une grande flexibilité d’utilisation.
Fonctionnant à 2 450 MHz, PlasmaThin s’intègre parfaitement aux générateurs micro-ondes à semi-conducteurs et assure un contrôle précis du plasma pour le traitement avancé des matériaux, l’activation de surface et les applications analytiques.
Plasma stable sans réaccord
Le principe des ondes de surface, associé à un système d’accord intégré (auto-tuning), maintient une puissance réfléchie proche de zéro, garantissant un plasma stable sans réglages entre les essais.
Allumage intégré et couplage performant
Le système d’allumage intégré et le couplage inductif assurent un amorçage fiable du plasma tout en minimisant la puissance réfléchie.
Large plage de pression
Fonctionnement de 10⁻² mbar jusqu’à la pression atmosphérique, pour répondre aussi bien aux procédés sous vide qu’aux applications à pression atmosphérique.
Plasma reproductible
À paramètres identiques, l’allumage et la stabilité du plasma sont parfaitement reproductibles, garantissant des résultats constants.
Présentation technique de la PlasmaThin
La PlasmaThin est une source plasma micro-ondes compacte utilisant la propagation d’ondes de surface le long d’un tube diélectrique, le plasma agissant comme un milieu conducteur.
Cette conception permet de générer des colonnes de plasma allongées dont la longueur dépend de la pression, de la composition du gaz et de la puissance micro-ondes.
Le système fonctionne grâce à un tube diélectrique dans lequel le champ micro-ondes se propage le long de l’interface plasma. L’accord intégré maintient une puissance réfléchie quasi nulle afin d’assurer un transfert d’énergie optimal et des conditions plasma parfaitement reproductibles.
Le système comprend :
- Adaptation d’impédance intégrée (deux points de réglage)
- Tubes diélectriques de 6 mm et 8 mm
- Raccordements gaz et refroidissement
- Compatibilité avec les générateurs micro-ondes à semi-conducteurs
Son architecture garantit un excellent rendement, une très faible puissance réfléchie et une propagation stable du plasma, aussi bien en laboratoire qu’en environnement industriel.
Caractéristiques principales
- Allumage précis grâce au système intégré
- Fonctionnement stable sur une large plage de pression
- Compatible avec différents gaz (Ar, O₂, CF₄…)
- Intégration simple dans les installations de recherche et de production
Applications variées de la source PlasmaThin pour le traitement de surface
La source plasma micro-ondes PlasmaThin est adaptée à de nombreuses applications scientifiques, biomédicales et industrielles :
- Dépôt par couches atomiques (ALD)
- Activation de surface
- Applications biomédicales
- Procédés environnementaux
- Stérilisation et désinfection
- Et bien d’autres
Sa flexibilité en fait une solution idéale pour les laboratoires de recherche, les applications médicales et les systèmes plasma industriels.
La PlasmaThin génère un plasma grâce à la propagation d’ondes de surface le long d’un tube diélectrique. Les micro-ondes ionisent le gaz afin de former une colonne de plasma stable. Grâce à son système d’adaptation d’impédance intégré, la puissance réfléchie reste proche de zéro, garantissant un excellent transfert d’énergie, une grande stabilité du plasma et des résultats reproductibles.
La source PlasmaThin offre un contrôle précis et reproductible du plasma pour les applications nécessitant une grande stabilité de procédé. Son fonctionnement de 10⁻² mbar jusqu’à la pression atmosphérique, sa faible puissance réfléchie et sa compatibilité avec les générateurs micro-ondes à semi-conducteurs en font une solution performante pour le traitement de surface, l’activation de surface, les dépôts minces et de nombreuses applications scientifiques.
La source PlasmaThin est utilisée dans de nombreuses applications industrielles et de recherche, notamment :
- le dépôt par couches atomiques (ALD),
- l’activation de surface,
- les traitements plasma,
- les applications biomédicales,
- la stérilisation et la désinfection,
- les procédés environnementaux,
- les laboratoires de recherche et développement.
La PlasmaThin peut fonctionner avec différents gaz selon le procédé, notamment l’argon (Ar), l’oxygène (O₂), le tétrafluorométhane (CF₄) ainsi que d’autres gaz utilisés dans les applications plasma industrielles et scientifiques.
Oui. La PlasmaThin fonctionne sur une très large plage de pression, de 10⁻² mbar jusqu’à la pression atmosphérique. Cette flexibilité lui permet d’être utilisée aussi bien dans des procédés sous vide que dans des applications plasma à pression atmosphérique, selon les besoins du procédé.
Constituez votre système plasma complet
Pour des performances optimales, associez PlasmaThin à nos générateurs micro-ondes à semi-conducteurs offrant :
- Un contrôle précis de la puissance
- Une réponse très rapide et une modulation avancée
- Une excellente stabilité du procédé
- Une intégration complète des systèmes plasma
Testez notre source plasma micro-ondes
Vous recherchez une solution plasma innovante ? Nos experts vous accompagnent dans le choix de la configuration la plus adaptée à votre procédé.