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Sources plasma micro-ondes pour applications industrielles et de recherche
Sairem développe des sources plasma micro-ondes avancées et des générateurs de puissance conçus pour les laboratoires de recherche et les industries de haute technologie.
Nos technologies plasma permettent de générer des plasmas micro-ondes haute densité pour des applications telles que le dépôt de couches minces, la gravure sèche, le traitement de surface, la dépollution des gaz et les procédés Power-to-X.
Les systèmes plasma Sairem associent des sources plasma micro-ondes, des générateurs micro-ondes ainsi que des systèmes avancés de contrôle de puissance et de configurations multi-sources.
Cette approche intégrée permet de créer des systèmes plasma hautement uniformes et évolutifs, adaptés aussi bien aux applications de recherche en laboratoire qu’aux productions industrielles.
Les technologies plasma Sairem sont utilisées dans différents secteurs industriels tels que les semi-conducteurs, les matériaux avancés, les diamants synthétiques et les technologies environnementales.
Sairem développe plusieurs types de sources plasma micro-ondes adaptées aux différentes plages de pression et aux exigences spécifiques de chaque procédé.
Sources plasma micro-ondes innovantes
Les sources plasma micro-ondes Sairem permettent de générer des plasmas haute densité et hautement réactifs pour des procédés industriels et de recherche avancés tels que la dépollution des gaz, le reformage du méthane, le dépôt PECVD de couches minces, la gravure, le traitement de surface et bien plus encore.
Haute densité plasma et forte concentration en espèces réactives
Les sources plasma micro-ondes génèrent des densités plasma très élevées ainsi que de fortes concentrations en espèces réactives.
Plasma sans électrode
Aucune électrode n’est en contact direct avec le plasma. Cette conception permet des cycles de fonctionnement plus longs et une meilleure pureté du procédé, en évitant toute contamination liée aux électrodes.
Génération plasma évolutive
Les sources plasma Sairem peuvent être configurées en matrices ou en systèmes multi-sources afin de générer des plasmas uniformes sur de grandes surfaces.
Conception auto-adaptative
Nos sources sont conçues avec un système d’auto-adaptation. Cela permet de fonctionner sans système d’adaptation d’impédance externe, pour un fonctionnement stable et simplifié.
Générateurs micro-ondes à semi-conducteurs (état-solide) et à magnétron
Les sources plasma Sairem fonctionnent avec des générateurs micro-ondes haute performance afin de créer des systèmes plasma stables et efficaces.
Nos générateurs offrent un contrôle précis de la puissance nécessaire aux procédés plasma exigeants tels que le PECVD, la gravure, la dépollution des gaz et la conversion du méthane.
Selon les besoins de l’application, des générateurs à magnétron ou à semi-conducteurs (état-solide) peuvent être utilisés, offrant une grande flexibilité en matière de contrôle de puissance, de stabilité et d’intégration.
Une source plasma micro-ondes utilise des ondes électromagnétiques micro-ondes pour ioniser un gaz et générer un plasma contenant des ions, des électrons et des espèces hautement réactives.
Les plasmas micro-ondes sont reconnus pour leur capacité à générer des densités plasma élevées ainsi que de fortes concentrations en espèces réactives, ce qui les rend particulièrement efficaces pour des procédés industriels et de recherche avancés.
Ces plasmas peuvent fonctionner sur une large plage de pressions et sans électrodes, ce qui les rend adaptés aux applications nécessitant une génération plasma propre, stable et fiable.
La technologie plasma micro-ondes présente plusieurs avantages par rapport aux systèmes plasma conventionnels :
- Une forte densité plasma et une concentration élevée en espèces réactives
- Une génération plasma sans électrode, réduisant les risques de contamination
- Un fonctionnement stable sur une large plage de pressions
- Un transfert d’énergie efficace directement dans le plasma
Ces caractéristiques rendent les plasmas micro-ondes particulièrement adaptés aux procédés avancés de traitement des matériaux et aux réactions chimiques.
Les sources plasma micro-ondes nécessitent un générateur micro-ondes pour fournir l’énergie électromagnétique nécessaire au maintien du plasma.
Associées aux générateurs micro-ondes à semi-conducteurs Sairem, les sources plasma bénéficient d’un contrôle précis de la puissance délivrée, watt par watt, garantissant un fonctionnement stable et un contrôle optimal du procédé.
Cette architecture permet de créer des systèmes plasma extrêmement stables pour les procédés industriels exigeants.
Oui. Les sources plasma Sairem peuvent être configurées en systèmes multi-sources, avec différentes configurations possibles : matrices, arrangements circulaires ou configurations en ligne.
Cette approche permet de générer des surfaces plasma importantes et uniformes, adaptées aux procédés industriels à grande échelle, avec une uniformité de densité plasma généralement de l’ordre de 5 %.
Oui. Les sources plasma micro-ondes Sairem sont conçues comme des composants OEM compacts pouvant être intégrés dans des équipements personnalisés.
Elles sont développées pour des environnements industriels et peuvent être associées à des générateurs micro-ondes et des réacteurs afin de construire des systèmes complets de traitement plasma.
Les sources plasma micro-ondes doivent être alimentées par des générateurs micro-ondes qui fournissent l’énergie électromagnétique nécessaire pour créer et contrôler le plasma.
Les générateurs Sairem offrent un contrôle précis de la puissance nécessaire à l’allumage et au maintien du plasma, permettant un fonctionnement stable sur une large plage de pressions et de conditions opératoires.
Oui. La conception brevetée auto-adaptative des sources plasma et le contrôle numérique des générateurs éliminent le besoin de systèmes externes d’adaptation d’impédance.
Cette technologie permet un contrôle de puissance watt par watt pour une génération plasma optimisée et une meilleure stabilité du procédé.
Sairem propose une gamme de générateurs micro-ondes adaptés aux applications plasma, notamment :
- des générateurs compacts à semi-conducteurs (par exemple la gamme GMS) pour un contrôle précis de la puissance ;
- des générateurs à magnétron haute puissance pour les systèmes industriels à grande échelle.
Ces générateurs peuvent être intégrés aux sources plasma pour des applications telles que le PECVD, la gravure, la dépollution des gaz et les procédés Power-to-X.
Avec les générateurs micro-ondes à semi-conducteurs Sairem, la puissance de chaque source plasma peut être contrôlée indépendamment.
Cette fonctionnalité garantit que les configurations multi-sources (matrices, circulaires ou linéaires) maintiennent une densité plasma uniforme sur de grandes surfaces, un critère essentiel pour des applications industrielles telles que le dépôt de couches minces ou la gravure.
Les sources plasma Sairem peuvent être organisées en configurations multi-sources afin de générer des surfaces plasma uniformes de grande dimension.
En combinant plusieurs sources, chacune alimentée et contrôlée par des générateurs Sairem, ces systèmes peuvent évoluer d’installations de laboratoire vers des réacteurs industriels répondant aux besoins de procédés nécessitant une forte capacité de production.
Échangez avec les experts Sairem sur vos besoins en plasma micro-ondes
Nos équipes accompagnent les industriels et les laboratoires dans la sélection et l’intégration des équipements plasma adaptés à leurs procédés.
Un leader mondial des technologies micro-ondes et radiofréquence
Avec plus de 45 ans d’expérience, Sairem est un leader mondial des technologies industrielles micro-ondes et radiofréquence.
Nos équipements sont installés dans plus de 70 pays et accompagnent des industriels, des laboratoires de recherche et des partenaires technologiques dans le monde entier.
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