Kollisions-Mikrowellen-Plasmaquellen

Gleichmäßige Plasmaprozesse in großen Dimensionen, die meist eine starke Ionenunterstützung erfordern, sind für die Behandlung großer Oberflächen unerlässlich.

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Hauptprinzip

Gleichmäßige Plasmen werden in der Regel in großen Dimensionen verarbeitet und erfordern meist eine starke Ionenunterstützung. Sie sind unverzichtbar für Oberflächenbehandlungen im industriellen Maßstab, die immer höhere Ätz- oder Abscheidungsraten erfordern, wie die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) oder Tiefes Ätzen.

 

Diese Anforderungen haben die Entwicklung einheitlicher Plasmaquellen mit hoher Dichte gefördert, die zudem in der Lage sind, hohe Konzentrationen reaktiver Spezies zu liefern.

Warum unsere Plasmaquellenverwenden ?

Um ein großes Plasmavolumen zu erzeugen, indem die kritische Dichte, die die Ausbreitung der Wellen begrenzt, überwunden wird, ist es außerdem notwendig, die Plasmaquellen klug zu verteilen. Dies stellt eine starke Einschränkung für die Kontrolle der an jede Quelle übertragenen Leistung dar.

 

Um diese Einschränkungen zu überwinden, haben wir zwei innovative selbstanpassende Plasmaquellen entwickelt, die mit 2,45-GHz-Festkörpergeneratoren ( Hi-Wave) arbeiten. Das innovative Design unserer Quelle in Verbindung mit unseren Festkörpergeneratoren (patentierter Autotune-Algorithmus) verhindert Leistungsverluste innerhalb der Quelle und ermöglicht eine vollständige Selbstanpassung über einen weiten Betriebsbereich , ohne dass ein Impedanzanpassungssystem erforderlich ist.

Hi-Wave Kollisionsplasmaquelle

Hi-Wave ist eine Mikrowellenplasmaquelle vom Kollisionstyp und kann von 10 -2 bis 1 mbar (1 Pa bis 100 Pa) betrieben werden. Sie ist daher für den Betrieb ohne Magnete im Kollisionsbereich vorgesehen.

 

Für die meisten Gase können in einer Multi-Source-Konfiguration mit einem Arbeitsabstand von 10 cm Plasmadichten von mehr als 10 12 cm -3 erreicht werden.

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