Mikrowellenplasma für die Dünnschichtabscheidung

Hauptprinzip

In der Regel werden gleichmäßige Plasmen über große Dimensionen verarbeitet, die meist eine starke Ionenunterstützung benötigen. Sie sind unerlässlich für Oberflächenbehandlungen im industriellen Maßstab, die immer höhere Ätz- oder Abscheidungsraten erfordern, wie z. B. die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) oder Tiefes Ätzen. Diese Anforderungen haben die Entwicklung einheitlicher Plasmaquellen mit hoher Dichte stimuliert, die darüber hinaus in der Lage sind, hohe Konzentrationen reaktiver Spezies zu liefern.

Mikrowellen-Plasmaquellen sind bekannt für ihre Leistung in Bezug auf die Erzeugung hoher Dichten reaktiver Spezies. Aber sie wurden oft als zweitklassig angesehen, da die Implementierung in einen industriellen Prozess schwierig ist, da die meisten von ihnen ein Impedanzanpassungssystem erfordern, das schwer zu automatisieren ist.

Warum unsere Plasmaquellenverwenden ?

Um ein großes Plasmavolumen zu erzeugen und die kritische Dichte, die die Ausbreitung der Wellen begrenzt, zu überwinden, müssen die Plasmaquellen klug verteilt werden.

Um diese Beschränkungen zu überwinden, haben wir zwei innovative selbstanpassende Plasmaquellen entwickelt, die mit 2, 45-GHz-Festkörpergeneratoren arbeiten: Aura-Wave und Hi-Wave. Der geringe Platzbedarf unserer Lösung ermöglicht die Schaffung einer Reihe von Plasmaquellen ohne Größenbeschränkung.

Bei herkömmlichen HF- oder MW-Plasmaquellen mangelt es an Gleichmäßigkeit, insbesondere an den Rändern. Durch die unabhängige Steuerung der Leistung jeder Quelle beseitigt unsere Technologie der Festkörpergeneratoren all diese Einschränkungen, und zwar für jede Substratgröße.

Unbegrenzte Plasmafläche

Mit Aura-wave und Hi-wave Plasmaquellen in Matrixkonfiguration können Sie unendliche Kombinationsmöglichkeiten einrichten:

• Inline-Anordnung
• Kreisförmige Anordnung
• Matrix-Anordnung
• 3D-Anordnung

Dies ermöglicht die Entwicklung von Prozessen mit hoher Plasmadichte und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit in großem Maßstab.

Aura-Wave ECR-Plasmaquelle

Aura-Wave ist eine koaxiale Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Plasmaquelle. Sie wurde so konzipiert, dass sie sich selbst anpasst, sobald das Plasma gezündet ist. Ein mit der elektromagnetischen Welle kombiniertes Magnetfeld ermöglicht die Erzeugung eines Plasmas bei niedrigem Druck aufgrund der Elektronen-Zyklotron-Resonanz. Die Quelle Aura-Wave wurde so konzipiert, dass sie unabhängig vom Gas ein Mikrowellenplasma mit einem Druck von mehreren Jahrzehnten und einigen wenigen Watt aufrechterhalten kann.

Die Quelle ermöglicht es, mit den meisten Gasen Plasmadichten von 10 ¹¹ cm ^-3 in Multi-Quellen-Konfiguration in 10 cm Entfernung von der Quellenebene zu erreichen.

Hier finden Sie unsere neueste Forschung zu unseren Aura-Wave ECR-Mikrowellenplasmaquellen hier !

Hi-Wave Kollisionsplasmaquelle

Die Hi-Wave kollisionale koaxiale Plasmaquelle wurde entwickelt, um interne Leistungsverluste zu vermeiden, und hat sich als angepasst erwiesen, d.h. keine reflektierte Leistung, ohne zusätzliches Impedanzanpassungssystem über 1 Druckdekade, abhängig vom Plasmagas.

Hi-Wave ist eine Mikrowellenplasmaquelle des Kollisionstyps und daher für den Betrieb ohne Magneten im Kollisionsbereich vorgesehen.

Mit den meisten Gasen können in einer Multi-Source-Konfiguration in 10 cm Entfernung von der Quellebene Plasmadichten von mehr als 10 ¹² cm ^-3 erreicht werden.

Bereit zur Integration

Unsere OEM-Mikrowellenplasmalösungen sind kompakt, zuverlässig und industrietauglich und lassen sich leicht in Ihre eigenen Anlagen integrieren. Unsere Experten unterstützen Sie in jeder Phase des Prozesses, indem sie umfangreiche Simulationen durchführen, um Ihren Prozess zu optimieren.

Wir verfügen über jahrelange Erfahrung in der Entwicklung von Mikrowellen- und Plasmasystemen. Wenn Sie sich für SAIREM entscheiden, verlassen Sie sich auf einen Partner, der seit seinen Anfängen eine starke F&E- und Support-Kultur sowie eine hohe Flexibilität aufweist.