MarouaneBENNAMARA
+33 (0)4 72 01 81 60industrial Generadores de CC
Nuestras fuentes de alimentación de CC industriales han sido diseñadas para un sputtering magnetron optimizado
El más simple sputtering de plasma
El sputtering de plasma de CC es el tipo de deposición más simple y rentable para materiales de recubrimiento dirigidos eléctricamente conductores.
Con respecto a la fuente de alimentación, las fuentes de alimentación de CC son las más fáciles de controlar y equipos baratos si está haciendo recubrimiento de metal.
Ventajas de nuestros generadores de CC
El control preciso de la potencia, la corriente y el voltaje de nuestras fuentes de alimentación de CC las hacen perfectamente adaptadas para sistemas de sputtering magnetron a pequeña escala. Además, el interruptor rápido integrado permite sesgar 4 objetivos secuencialmente. El software patentado y la electrónica permiten la detección y eliminación de arcos potenciales.
Por último, el panel frontal, equipado con una pantalla y una rueda de selección, permite un control rápido y fácil de todas las funciones del generador.
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