Sorgenti collisionali di plasma a microonde

I processi di plasma uniformi su grandi dimensioni, e che spesso richiedono una forte assistenza ionica, sono essenziali per il trattamento di grandi superfici.

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Principioprincipale

Di solito, i plasmi uniformi sono trattati su grandi dimensioni, e il più delle volte richiedono una forte assistenza ionica. Sono essenziali per i trattamenti superficiali su scala industriale che richiedono tassi di incisione o deposizione sempre più elevati, come la deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD) o incisione profonda.

 

Queste esigenze hanno stimolato lo sviluppo di fonti di plasma uniformi, ad alta densità, che, inoltre, sono in grado di fornire alte concentrazioni di specie reattive.

Perché usare le nostre fonti di plasma?

Inoltre, per creare un grande volume di plasma superando la densità critica che limita la propagazione delle onde, è necessario distribuire saggiamente le sorgenti di plasma. Questo aggiunge un forte vincolo al controllo della potenza trasmessa a ciascuna sorgente.

 

Per superare questi vincoli, abbiamo sviluppato due innovative sorgenti di plasma auto-equilibrate che lavorano con generatori a stato solido a 2,45 GHz, Hi-Wave. Il design innovativo della nostra sorgente, associato ai nostri generatori a stato solido (algoritmo brevettato di auto-tune) impedisce la perdita di potenza all'interno della sorgente e permette di essere abbastanza auto-equilibrato su ampie condizioni operative senza bisogno di alcun sistema di adattamento di impedenza.

Hi-Wave sorgente di plasma collisionale

Hi-Wave è una sorgente di plasma a microonde di tipo collisionale e può funzionare da 10 -2 a 1 mbar (da 1 Pa a 100 Pa). È quindi destinata a funzionare senza magneti nel regime collisionale.

 

Densità di plasma superiori a 10 12 cm -3 possono essere raggiunte in configurazione multi-sorgente con una distanza di lavoro di 10 cm, per la maggior parte dei gas.

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  • HI-WAVE

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