Fuentes de plasma de microondas colisión

Los procesos de plasma uniformes en grandes dimensiones, y la mayoría de las veces requieren una fuerte asistencia iónica, son esenciales para el tratamiento de grandes superficies.

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Principio principal

Por lo general, los plasmas uniformes se procesan en grandes dimensiones y, con mayor frecuencia, requieren una fuerte asistencia iónica. Son esenciales para los tratamientos superficiales a escala industrial que requieren tasas de grabado o deposición cada vez más altas, como la deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD) o el grabado profundo.

 

Estos requisitos han estimulado el desarrollo de fuentes de plasma uniformes, de alta densidad, que, además, son capaces de entregar altas concentraciones de especies reactivas.

¿Por qué usar nuestras fuentes de plasma?

Además, para crear un gran volumen de plasma superando la densidad crítica que limita la propagación de ondas, es necesario distribuir sabiamente las fuentes plasmáticas. Esto añade una fuerte restricción en el control de la potencia transmitida a cada fuente.

 

Para superar estas limitaciones, hemos desarrollado dos innovadoras fuentes de plasma autoajustables que funcionan con generadores de estado sólido de 2,45 GHz. Hi-Wave. El diseño innovador de nuestra fuente, asociado con nuestros generadores de estado sólido (algoritmo patentado de ajuste automático) evita la pérdida de energía dentro de la fuente y permite que se autopareje en condiciones de operación amplias sin necesidad de ningún sistema de coincidencia de impedancia.

Hi-Wave fuente plasmática colisional

Hi-Wave es una fuente de plasma de microondas de tipo colisión y puede operar de 10 -2 a 1 mbar (1 Pa a 100 Pa). Por lo tanto, está destinado a funcionar sin imanes en el régimen de colisión.

 

Las densidades de plasma superiores a 10 12 cm -3 se pueden lograr en configuración de múltiples fuentes con una distancia de trabajo de 10 cm, para la mayoría de los gases.

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  • HI-WAVE

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    4 x 450W generador de microondas para fuentes de plasma.

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