Plasma

PE-ALD, PE-ALE, PE-CVD

PE-CVD : dépôt de couches minces par activation plasma micro-ondes

Optimisez les procédés PE-CVD grâce aux sources Sairem PlasmaVac, pour un plasma haute densité, homogène et adapté aux traitements industriels de grandes surfaces.

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PE-ALD, PE-ALE, PE-CVD

Dépôt de couches atomiques assisté par plasma micro-ondes (PE-ALD)

Un fabricant d'équipements de dépôt a intégré nos sources plasma micro-ondes afin de réaliser des procédés PE-ALD à température ambiante sur des pièces tridimensionnelles.

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Configurations multi-sources plasma pour surfaces étendues

Les sources plasma sous vide Sairem PlasmaVac permettent de créer des configurations multi-sources pour obtenir des surfaces plasma de grande taille avec une excellente uniformité de densité.

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