Plasma
PE-CVD : dépôt de couches minces par activation plasma micro-ondes
Optimisez les procédés PE-CVD grâce aux sources Sairem PlasmaVac, pour un plasma haute densité, homogène et adapté aux traitements industriels de grandes surfaces.
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Dépôt de couches atomiques assisté par plasma micro-ondes (PE-ALD)
Un fabricant d'équipements de dépôt a intégré nos sources plasma micro-ondes afin de réaliser des procédés PE-ALD à température ambiante sur des pièces tridimensionnelles.
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Configurations multi-sources plasma pour surfaces étendues
Les sources plasma sous vide Sairem PlasmaVac permettent de créer des configurations multi-sources pour obtenir des surfaces plasma de grande taille avec une excellente uniformité de densité.
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