Lors de la mise en œuvre des procédés PEALD, PECVD ou PVD, des processus plasma uniformes sur de grandes dimensions sont essentiels pour les traitements de surface à l'échelle industrielle.
Habituellement, les plasmas uniformes sont traités sur de grandes dimensions et nécessitent le plus souvent une forte assistance ionique. Ils sont essentiels pour les traitements de surface à l'échelle industrielle qui nécessitent des taux de gravure ou de dépôt toujours plus élevés, comme le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) ou gravure profonde. Ces exigences ont stimulé le développement de sources de plasma uniformes, de haute densité, qui, de plus, sont capables de fournir des concentrations élevées d'espèces réactives.
Les sources de plasma micro-ondes sont bien connues pour leurs performances en termes de création de hautes densités d'espèces réactives. Mais elles ont souvent été considérées comme un pis-aller compte tenu de la difficulté à les mettre en œuvre dans un procédé industriel car la plupart d'entre elles nécessitent un système d'adaptation d'impédance difficile à automatiser.
En outre, pour créer un grand volume de plasma en surmontant la densité critique limitant la propagation des ondes, il est nécessaire de répartir judicieusement les sources de plasma.
Pour surmonter ces contraintes, nous avons mis au point deux sources de plasma auto-adaptatives innovantes fonctionnant avec des générateurs à semi-conducteurs de 2,45 GHz : Aura-Wave et Hi-Wave. Le faible encombrement de notre solution permet de créer un réseau de sources de plasma, sans limitation d'échelle.
Sur les sources de plasma traditionnelles RF ou MO , on constate un manque d'uniformité, notamment sur les bords. En contrôlant la puissance de chaque source indépendamment, notre technologie de générateurs à l'état solide supprime toutes ces limitations, pour toute taille de substrat.
Avec les sources de plasma Aura-wave et Hi-wave en configuration matricielle, vous pouvez mettre en place des possibilités de combinaison infinies :
Cela permet de développer des procédés avec une densité de plasma élevée et une excellente uniformité à grande échelle.
Aura-Wave est une source de plasma coaxiale à résonance cyclotronique électronique. Elle a été conçue pour être auto-adaptée une fois que le plasma est allumé. Un champ magnétique combiné à l'onde électromagnétique permet la création de plasma à basse pression grâce à la résonance cyclotronique électronique. La source Aura-Wave a été conçue pour maintenir un plasma micro-ondes sur plusieurs dizaines d'années de pression et à partir de quelques watts, quel que soit le gaz.
La source permet d'atteindre des densités de plasma de 10 11 cm -3 en configuration multisource à 10 cm du plan source avec la plupart des gaz.
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La source de plasma coaxial collisionnel Hi-Wave a été conçue pour éviter les pertes de puissance internes et s'est avérée être adaptée, c'est-à-dire sans puissance réfléchie, sans système d'adaptation d'impédance supplémentaire sur une décennie de pression, en fonction du gaz plasmagène.
Hi-Wave est une source de plasma micro-ondes de type collisionnel et est donc destinée à fonctionner sans aimants dans le régime collisionnel.
Des densités de plasma supérieures à 10 12 cm -3 peuvent être obtenues en configuration multi-sources à 10 cm du plan de la source avec la plupart des gaz.
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