Configuraciones de múltiples fuentes para superficies de plasma ilimitadas
Con Aura-wave y Hi-wave Fuentes de plasma, los usuarios pueden crear infinitas posibilidades de combinación: arreglos en línea, circulares, matriciales o 3D. Esto permite desarrollar procesos con alta densidad de plasma y excelente uniformidad a gran escala.
Excelente uniformidad de densidad
La tecnología de fuente de plasma de microondas SAIREM permite superficies de plasma prácticamente ilimitadas gracias a las combinaciones de múltiples fuentes. Sus arreglos pueden ser en línea, circulares, en matriz o en 3D dependiendo de su aplicación.
Gracias al perfecto control de potencia proporcionado por cada fuente, nuestra solución ofrece un plasma con una excelente uniformidad de densidad (generalmente menos del 5% de variación).
Encuentre a continuación algunas medidas de uniformidad de Aura-Wave y Hi-Wave fuentes plasmáticas dispuestas en matriz. Póngase en contacto con nosotros para obtener resultados y detalles adicionales.
Aura-Wave distribución matricial
El gráfico muestra la distribución de densidad simulada y la curva experimental para una configuración de matriz de 25 Aura-Wave con constante de red a=90 mm realizada a 10 cm del plano fuente para un plasma de nitrógeno puro a una presión de 1 Pa.
El efecto de la optimización de la energía se ve claramente. Las fuentes periféricas se suministraron con 400 W/fuente, mientras que las 9 fuentes centrales se suministraron con 75 W/fuente. Se logra un diámetro de uniformidad mayor (370 mm para un 5% de uniformidad). Sin embargo, incluso si la densidad máxima registra una pequeña disminución, todavía tiene un valor muy alto alrededor de 20 × 10 10 cm -3.
Hi-Wave distribución matricial
El efecto de aumentar el número y la compacidad de las fuentes, es decir, disminuir el parámetro de red, se muestra en la figura de la derecha para un plasma de argón puro a una presión de 2 Pa.
Para una configuración de matriz de 25 Hi-Wave fuentes y a = 90 mm a una distancia d = 14 cm del plano de fuentes, la potencia optimizada es de 400 W para las fuentes periféricas y 220 W para las 9 centrales. Se registra una densidad máxima de alrededor de 2 × 10 12 cm -3 para una superficie uniforme de 400 mm de diámetro.
Contacto con nosotros
¿Necesita ayuda para encontrar la mejor solución?
Nuestra guía gratuita de tecnología de plasma de microondas de baja presión le ayudará a comprender mejor esta tecnología y encontrar la solución más adaptada a sus necesidades.
Descargue su guía