Configurations multi-sources pour des surfaces de plasma illimitées

Avec les sources de plasma Aura-wave et Hi-wave , les utilisateurs peuvent créer des possibilités de combinaison infinies : arrangements en ligne, circulaires, matriciels ou 3D. Cela permet de développer des procédés avec une haute densité de plasma et une excellente uniformité à grande échelle.

Excellente uniformité de la densité

La technologie des sources de plasma micro-ondes SAIREM permet d'obtenir des surfaces de plasma virtuellement illimitées grâce à la combinaison de plusieurs sources. Leur disposition peut être en ligne, circulaire, en matrice ou en 3D selon votre application.

 

Grâce au contrôle parfait de la puissance délivrée par chaque source, notre solution délivre un plasma d'une excellente uniformité de densité (généralement moins de 5% de variation).

 

Retrouvez ci-dessous quelques mesures d'uniformité de sources plasma Aura-Wave et Hi-Wave disposées en matrice. Contactez-nous pour obtenir des résultats et des détails supplémentaires.

Aura-Wave distribution matricielle

Le graphique montre la distribution de densité simulée et la courbe expérimentale pour une configuration de matrice de 25 Aura-Wave avec une constante de réseau a=90 mm réalisée à 10 cm du plan de la source pour un plasma d'azote pur à une pression de 1 Pa.

 

L'effet de l'optimisation de la puissance est clairement visible. Les sources périphériques ont été alimentées avec 400 W/source alors que les 9 sources centrales ont été alimentées avec 75 W/source. Un diamètre d'uniformité plus important est obtenu (370 mm pour une uniformité de 5%). Cependant, même si la densité maximale enregistre une légère baisse, elle conserve une valeur très élevée autour de 20 × 10 10 cm -3.

Hi-Wave distribution matricielle

L'effet de l'augmentation du nombre et de la compacité des sources, c'est-à-dire la diminution du paramètre de réseau, est illustré dans la figure de droite pour un plasma d'argon pur à une pression de 2 Pa.

 

Pour une configuration matricielle de 25 sources Hi-Wave et a = 90 mm à une distance d = 14 cm du plan des sources, la puissance optimisée est de 400 W pour les sources périphériques et de 220 W pour les 9 sources centrales. Une densité maximale autour de 2 × 10 12 cm -3 est enregistrée pour une surface uniforme de 400 mm de diamètre.

Contactez-nous

Besoin d'aide pour trouver la meilleure solution ?

Notre guide gratuit sur la technologie plasma micro-ondes basse pression vous aidera à mieux comprendre cette technologie, et à trouver la solution la plus adaptée à vos besoins.

Téléchargez votre guide

Partagez sur :