原有流程
我们的客户是一家专门从事蒸镀设备设计的公司。其通常的热ALD工艺被设计为只在高温(300至400℃)下产生沉积物。
但是这位客户对三维基底的沉积要求越来越高,而热预算是有限的。他需要一个改进的ALD工艺来满足这些新要求。
提供的解决方案
为了克服这两个限制,即对三维部件的处理和热应力,我们向他提出将他的热ALD工艺改为PE-ALD(等离子体增强原子层沉积)。
我们支持他将我们的 Aura-Wave微波等离子体源到他的设备中,使他能够在室温下获得与他以前的工艺类似的沉积特性。
此外,我们的等离子体源已被集成在其设备上,没有阴影效应,使他也能加工三维零件。