多源配置用于无限的等离子体表面

卓越的密度均匀性

SAIREM微波等离子体源技术通过多个源的组合，可以实现几乎无限的等离子体表面。它们的排列方式既可以是直列式的，也可以是圆形的，还可以是矩阵式的，或者是三维的，这取决于你的应用。

由于每个源提供的完美的功率控制，我们的解决方案提供的等离子体具有出色的密度均匀性（通常小于5%的变化）。

在下面找到一些以矩阵排列的Aura-Wave 和Hi-Wave等离子源的均匀性测量。联系我们以获得更多的结果和细节。

Aura-Wave矩阵分布

该图显示了在距离源平面10厘米处实现的纯氮等离子体在1帕压力下的25Aura-Wave ，晶格常数a=90毫米的矩阵配置的模拟密度分布和实验曲线。

功率优化的效果是显而易见的。周边源以400瓦/源供电，而9个中心源则以75瓦/源供电。实现了更大的均匀性直径（5%的均匀性为370毫米）。然而，即使最大密度记录略有下降，它仍然有一个非常高的值，大约为20×10¹⁰厘米^-3。

Hi-Wave矩阵分布

对于压力为2帕的纯氩等离子体，增加源的数量和紧凑性，即降低晶格参数的效果显示在右图中。

对于一个由25个Hi-Wave ，a=90毫米，距离源平面d=14厘米的矩阵配置，优化的功率是外围源400瓦，9个中央源220瓦。在直径为400毫米的均匀表面上，记录了大约2×10¹²厘米^-3的最大密度。